儀器簡介 載氣的純化在靈敏度要求高的地方是一種不可缺少的手段，例如在氣相色譜中，即使有低于PPB級的不純氣體也會影響檢測器的靈敏度，損壞毛細(xì)柱。Valco生產(chǎn)的氦氣純化器（HP2）和氮氣純化器（NP2）可以將氦氣及其他惰性氣體中的PPM級以下的不純氣體純化，為各種需要氦氣及其他惰性氣體的系統(tǒng)提高純氣，如HP Atomic Emissions檢測器，Valco Pulse Discharge Helium Ionization檢測器。
Valco 氣體純化器的純化基質(zhì)是一種無揮發(fā)性的吸附性合金，熔合性好，穩(wěn)定性高，可以安全簡單地使用。
吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環(huán)境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴(kuò)散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進(jìn)行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩(wěn)定性，包括兩個溫度控制范圍。
儀器規(guī)格
規(guī)格
氦氣純化器貨號
氮氣純化器貨號
110VAC
HP-2
NP2
230VAC
HP2-220
NP2-220
純化芯
I-23572HP2
I-23572NP
儀器技術(shù)指標(biāo)
氦氣純化器
氮氣純化器
純化氣體
He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn
只純化N2
*大操作壓力
1000 psig
不純氣去除
輸入氣雜質(zhì)濃度在10ppm
純化輸出低于10ppb
H2O, H2, O2, N2, NO, NH3, CO, CO2, CH4,
其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2
輸入氣雜質(zhì)濃度在10ppm
純化輸出低于10ppb
H2O, H2, O2, NO, NH3, CO, CO2, CH4,
其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2
不被去除的
He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn
He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn |
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