臥式6寸兩管退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6"硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時(shí)也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。
一、設(shè)備結(jié)構(gòu):
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圓形6寸片
3、工藝布局:滿足客戶工藝要求
4、自動化程度:工控機(jī)控制系統(tǒng)自動控制工藝流程
5、送取片方式:手動進(jìn)出舟。
6、外形:主機(jī)1臺，主機(jī)架為臥式兩管。
二、主要技術(shù)參數(shù):
1、加熱爐管有效口徑:滿足6英寸硅片�？上蛳录嫒�5寸和4寸硅片。
2、工作溫度范圍:上管:600~1400℃
          下管:200~500℃
3、恒溫區(qū)長度及精度:600mm，
    上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
    下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控機(jī)統(tǒng)一管理工藝
5、氣路設(shè)置:每管兩路氣體:氮?dú)?00L/min.氬氣100L/min。均采用MFC自動控制流量大小。 |
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