Savina MX超細(xì)纖維無塵擦拭布
Savina
高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過程中所需的嚴(yán)
格無塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時(shí)代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對超級無塵室中的極端無塵條件。
無塵室中所使用的擦拭布應(yīng)當(dāng)能夠清潔所有儀器、器械和外圍設(shè)備，同時(shí)不會(huì)造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能*好的擦拭布之一，專為高科技時(shí)代而設(shè)計(jì)。
超級高收縮、高密度整理產(chǎn)品
Savina MX的橫截面
Savina MX的橫截面
Savina MX的表面
Savina MX的表面
Savina MX在專門的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g
特 色
掉毛量極少。
迅速而積極地吸收并留住水分。
殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。
具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量*大，同時(shí)不會(huì)污染無塵室設(shè)備）。
用 途
用途
光磁盤、硬盤和軟盤的生產(chǎn)過程
液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過程
光盤和磁盤的生產(chǎn)過程
錄像機(jī)的生產(chǎn)過程
隱形眼鏡的生產(chǎn)過程
相機(jī)裝配線
印刷電路板的清潔工藝
相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝
藥品生產(chǎn)線清潔工藝
電影膠片清潔工藝
半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過程
精密涂層之前工件的清潔過程
規(guī)格/包裝：24cm x 24cm 10片/小包 100片/大包
15cm x 15cm 100片/小包 200片/大包
SAVINA MX
15cm x 15cm 100片/小包 200片/大包 |
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