研創(chuàng)新材高純鋅靶，高純鋅靶材，鋅靶以及鋅靶的相關產品，產品規(guī)格如下：
1、高純鋅靶材的純度為，99.9%，99.99%
2、高純平面鋅靶材的常用規(guī)格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
3、高純磁控濺射鋅靶材常用規(guī)格：Ø100*80，等。
4、高純蒸發(fā)鍍用鋅絲：直徑Ø0.3-5。
5、蒸發(fā)鍍用高純鋅粒：10*10，6*6，3*3，2*10等規(guī)格。
6、高純鋅靶材的生產工藝為真空熔煉，粉末冶金，等靜壓等。
7、高純鋅靶材的規(guī)格可根據客戶要求定做，也可以根據各種圖紙加工。
公司主要產品如下：
研創(chuàng)新材其它高純?yōu)R射靶材（規(guī)格按要求定做 純度3-6N）
高純金屬濺射靶材
鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鐵靶Fe、鋅靶Zn、錫靶Sn、鎂靶Mg、鈷靶Co、鎳靶Ni、鈦靶Ti、金靶Au、銀靶Ag、鉑靶Pt、錸靶Re、釕靶Ru、鈀靶Pd、銠靶Rh、銥靶Ir、銦靶In、釩靶V、鎘靶Cd、鎢靶W、鉬靶Mo、鉭靶Ta、鈮靶Nb、鋯靶Zr、鉿靶Hf、鍺靶Ge、硅靶Si、錳靶Mn、鉍靶Bi、硒靶Se、硼靶B、鈣靶Ca
合金濺射靶材 （規(guī)格按要求定做）
鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe
高純金屬材料/真空鍍膜材料 (純度99.9-99.9999%)
高純金屬材料/蒸發(fā)鍍膜材料（粉末/顆粒/柱/塊/絲/片 可按要求定做 純度3-6N）
金Au：高純金粒,高純金絲,高純金片,高純金粉,高純金箔,金電極,金棒,金蒸發(fā)料
銀Ag：高純銀粒,高純銀絲,高純銀片,高純銀粉,高純銀箔,銀電極,銀棒,銀蒸發(fā)料
鉑Pt：高純鉑粒,高純鉑絲,高純鉑片,高純鉑粉,高純鉑箔,鉑電極,鉑電偶絲,鉑蒸發(fā)料
鈀Pd: 高純鈀粒,高純鈀絲,高純鈀片,高純鈀粉,鈀電極,鈀箔,鈀蒸發(fā)料
錸Re：高純錸粒,高純錸片,高純錸粉,錸蒸發(fā)料
銠Rh：高純銠粒,高純銠絲,高純銠粉,銠電極,銠蒸發(fā)料
釕Ru：高純釕粒,高純釕絲,高純釕片,高純釕粉,釕電極,釕蒸發(fā)料
銥Ir：高純銥粒,高純銥絲,高純銥片,高純銥粉,銥電極,銥蒸發(fā)料
鋁Al：高純鋁粒,高純鋁絲,高純鋁片,高純鋁箔,高純鋁粉,高純鋁棒,高純鋁塊,鋁電極,鋁蒸發(fā)料 |
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